高功率X光繞射分析儀2(XRD)
Rigaku SmartLab 9kW

主要規格

1.  最高功率:9W (45kV-200mA)

2.  X光光源:旋轉陽極,銅靶

3.      量角器:θ-θ型垂直式測角儀並具備獨立垂直面掃描軸,樣品水平置放量測。θs及θd最小步進角0.0001°、θs/θd轉速:0.02°/min~100°/min2θ分析角度需介於 -2°~ +140°

4.  掃描方式:2θ/ω(Out-of-plane掃描),2θχ/φ(In-Plane掃描)。

5.  光學系統:CBO多層鍍膜平行鏡、Ge(220) 2-bounce單光鏡CBO-f毛細管聚光鏡。

6.  偵測器:HyPix-3000大面積二維偵測器及XSPA-400 ER高解析度偵測器。

7.  載台: 七個自由度尤拉環樣品移動載台

8.  附屬設備:-180500°C變溫裝置

主要功能

1.      一般繞射分析(材料結構鑑定、結晶大小、結晶度、不同相的定量)

2.  垂直面繞射量測(In-plane)

3.  薄膜低掠角量(GIXRD)

4.  殘留應力分析(Residual stress)

5.  極圖分析(Pole figure)

6.  高解析Rocking Curve分析

7.  全反射分析(XRR)

8.  倒置晶格面掃描(RSM)

9.  變溫X光繞射分析

申請服務辦法

1.請到臺大材料系預約系統中預約

2.每月2510:00開始開放下個月的預約時段,當月有空檔可隨時預約。

3.底色為色時段代表有專人陪同,其他時段需自行操作。

4.取消預約需在二天前自行上網取消,否則除非特殊狀況(如天災)費用照計

注意事項

1.  無法測液態樣品

2.  不可測具揮發性、腐蝕性、爆炸性、接觸空氣易自燃及毒性樣品

3.  一般繞射以粉末樣品為宜,但須注意研磨過度可能產生應變、晶型破壞。數量至少50mg100mg以上更佳,以免強度不足。或建議改用有快速旋轉功能的MiniFlex 600C XRD

4.  塊材/薄膜/鍍層樣品,表面需乾淨、平整、光潔,樣品大小在4吋以下,厚度小於24mm

收費標準

1.材料系內自行操作:500/小時

2.材料系內陪同操作:950/小時

3.工學院內陪同操作:1500/小時

3.校內其他學院陪同操作:1500/小時

4.校外研究單位陪同操作:2500/小時

5.廠商陪同操作:5000/小時

聯絡方式

負責教授:薛人愷 教授 02-33664533 E-Mail:rkshiue@ntu.edu.tw

技術員:高崇源 先生 02-33665241 E-Mail:kcyuan@ntu.edu.tw

儀器放置地點:台灣大學工學院綜合大樓120

自行操作鑑定辦法

壹、目前只開放開關機及操作部份的鑑定,通過本儀器自行操作資格:能夠掌控一切事務,可於任何時間自行操作,但禁止自行更換未經允許的設備,另外夜間及假日必須事先向技術員提出申請,經指導教授同意後方可使用儀器。

貳、參加鑑定資格

一、防測驗及格者。

二、接受陪同操作滿6小時。(以計費登記簿為)。

參、鑑定時間由受鑑者自行上網預約後,再通知技術員時間,每人考試時間30分鐘,預約二小時可二人考試,現在可以考試時間為星期二上午9:00~12:00

肆、評分標準:滿分100分,80()以下不及格,重大錯誤(有損儀器可能)每次扣30分,較小錯誤(無害儀器可能)每次扣5~10分,熟度20(超時判定為不合格)